《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶(YS/T 719-2009)》由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。本标准负责起草单位：利达光电股份有限公司。本标准主要起草人：李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。