内容简介

本书反映了等离子体物理相关领域最新的研究进展，深入阐述了等离子体物理和化学的基本原理。书中应用基本理论来分析各种常见等离子体源的放电状态，包括计算等离子体参数及分析等离子体参数与控制参数的相关关系。

本书还讨论了半导体材料的刻蚀，薄膜沉积，离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用，具有实际参考价值。全书共18章，内容包括等离子体的基础知识、等离子体放电过程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放电、波加热的气体放电、直流放电、刻蚀、沉积与注入、尘埃等离子体，以及气体放电的动理论等。

目录

第1章概述

1.1材料处理

1.2等离子体和鞘层

1.2.1等离子体

1.2.2鞘层

1.3放电

1.3.1射频二极放电系统

1.3.2高密度等离子体源

1.4符号和单位

第2章等离子体的基本方程和平衡态性质

2.1引言

2.2场方程、电流和电压

2.2.1麦克斯韦方程组

2.3守恒方程

2.3.1玻尔兹曼方程