极紫外线光刻机

极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。

2018年4月，中芯国际向阿斯麦下单了一台EUV（极紫外线）光刻机，预计将于2019年初交货1。

基本信息

阿斯麦公司掌握了90%以上的高端光刻机市场份额。最新的两代高端光刻机领域，即浸入式（Immersion）和极紫外线式（EUV）光刻机，全部由阿斯麦掌握核心技术1。

光刻机（又称曝光机）是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。光刻机的作用是扫描曝光芯片晶圆，刻蚀集成电路。精度越高的光刻机，能生产出纳米尺寸更小，功能更强大的芯片。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产1。

光刻机的价格昂贵，通常在3000万至5亿美元不等。

2018年4月，中芯国际向阿斯麦下单了一台价值高达1.2亿美元的EUV（极紫外线）光刻机1。