内部加热氧化法(Internal heating oxidation)即改良的化学汽相沉积法。在化学汽相沉积法基础上发展的一种制造光纤坯棒的方法。与CVD不同,它的起始反应物是在一根旋转的石英管内加热,温度、浓度等条件促使大部份的反应以同质反应进行,即包含一个相的反应。
基本信息
中文名
外文名
Internal heating oxidation
别称
应用
对比
特点
工艺流程
内部加热氧化法与CVD不同,它的起始反应物是在一根旋转的石英管内加热,温度、浓度等条件促使大部份的反应以同质反应进行,即包含一个相的反应。
汽相物质在灼热区反应后生成颗粒状-材料落向下方远离灼热区的管壁处,灼热区沿管子长度连续地、周期地往返移动,从而形成一层层颗粒层,同时颗粒层又成为透明的玻璃层,最后再烧缩成所需的高度透明的玻璃质坯棒。
特点
由于反应剂浓度和温度的提高,同质反应和异质反应同时进行,所以MCVD法的沉积速度比CVD法提高了100倍。高的反应温度允许使用卤化物作反应剂,因而消除了高浓度的OH离子。
由于玻璃形成元素的卤化物的挥发性比杂质元素的卤化物高,蒸气压差几个数量级,因此原料纯度极高;并且在管内密封条件下污染亦少,可制得损耗极低的光纤。沉积过程中调节每层掺杂剂浓度可得到所需的任意折射率分布的坯俸。
原理
MCVD的工作原理如图所示:

原理