• 1.摘要
  • 2.基本信息
  • 3.基本概念
  • 3.1.光学活性
  • 3.2.对映体过量
  • 3.3.非对映体过量
  • 4.计算
  • 4.1.对映体过剩率
  • 4.2.非对映体过剩率
  • 5.相关概念
  • 5.1.对映异构体
  • 5.2.非对映异构体
  • 5.3.几何异构
  • 5.4.旋光异构
  • 5.5.构象异构
  • 6.知识拓展

对映体过量

化合物样品的对映体组成可用术语“对映体过量(enantiomeric excess)”或“对映体过量百分率ee%”来描述。它表示一个对映体对另一个对映体的过量,通常用百分数表示。

基本信息

  • 中文名

    对映体过量

  • 外文名

    enantiomeric excess

基本概念

光学活性

手性分子的两个对映体中,各对映体都把平面偏振光旋转到一定的角度,其数值相同但方向相反,这种性质称为光学活性。

对映体过量

化合物样品的对映体组成可用术语“对映体过量(enantiomeric excess)”或“对映体过量百分率ee%”来描述。它表示一个对映体对另一个对映体的过量,通常用百分数表示。

非对映体过量

同样,化合物的分子式中有一个以上的不对称中心时,它的非对映体组成可描述为“非对映体过量(diastereomeric excess)”或“非对映体过量百分率d.e.%”,指的是一个非对映体对其他非对映体的过量。

计算

对映体过剩率

对映体过剩率,常用ee表示,即enantiomeric excess的缩写。定义为在对映体混合物中一个异构体 a 比另一个异构体 b 多出来的量占总量的百分数。

对映体过剩率用来表示一种手性化合物的光学纯度。ee值越高,光学纯度也越高。

ee=([R]-[S]/[R]+[S])*100%

非对映体过剩率

非对映体过剩率(diastereomeric excess, 缩写为de%),通常用来表征两个以上手性中心时的光学纯度。 例如两个手性中心的,有四个非对映体:(R,R),(R,S),(S,S),(S,R),两两为一组。可以把(R,R)和(R,S)看作一组,(S,S)和(S,R)看做一组,这样两组之间就有一个de值。如果前面那组占80%,后面组占20%,则dr值为4:1,de值为(80%-20%)/(80%+20%)=60%。当然也可以把:(R,R)和(S,R)看做一组,(R,S),(S,S) 看作一组。情况和前面类似。但是不能把(R,R)和(S,S),(S,R)和(R,S)看作一组。因为它们是对映体。

化合物含有2个手性碳原子,在GC或HPLC测定的时候,采用手性柱,可以得到4个同分异构体峰,可以利用峰面积直接求de值及ee值(对映体过量值)。

相关概念

对映异构体

简单的说也就是两个异构体之间的关系就如同一个物体的立体结构在照镜子,这个立体结构和它在镜子中的像互为对映异构体。

1、两个互为镜像而不能重合的立体异构体,称为对映异构体,简称对映体。