简介

在电阻丝加热的舟中进行的热蒸镀

热蒸镀（ThermalEvaporation）是用于沉积薄膜的一种技术。源材料在真空腔中被电子束或者电阻丝加热蒸发成气态，气态的源材料会直接粘附在置于原材料上侧的衬底上，而不会与背景气氛碰撞。在常用气压下（），0.4nm大小的颗粒的平均自由程约为60nm。

影响沉积薄膜质量的因素

蒸发腔内热物体产生的蒸发物

蒸发腔内热物体（如加热灯丝）产生的杂质蒸发物会影响腔体的真空度，热蒸发的源材料原子可能会与这些杂质气氛反应。比如说，如果在热蒸镀铝（Al）的时候，腔体内存在氧气，便会反应形成氧化铝，便会阻碍沉积到衬底上的Al原子的量，使得沉积的Al薄膜的厚度很难精确控制。

衬底的粗糙度

衬底的粗糙度也会影响沉积薄膜的质量。由于热蒸发的气态源材料主要是以一个方向粘附到基底上，如果衬底的粗糙度比较大，那么沉积的薄膜则会很不均匀，因为衬底上一些较突出的区域会阻碍蒸发物向某些区域运动，从而形成“梯状覆盖”