• 1.摘要
  • 2.基本信息
  • 3.制作流程
  • 4.性能要求
  • 5.测试
  • 6.发展趋势
  • 7.参考资料

LED晶圆

LED晶圆是LED的核心部分,事实上,LED的波长、亮度、正向电压等主要光电参数基本上取决于晶圆材料。LED的相关电路元件的加工与制作都是在晶圆上完成的,所以晶圆技术与设备是晶圆制造技术的关键所在。

1、LED晶圆处理工序:本工序的主要工作是在晶圆上制作电路及电子元件(如晶体管、电容、逻辑开关等), 其处理程序通常与产品种类和所使用的技术有关,但一般基本步骤是先将晶圆适当清洗,再在其表面进行 氧化及化学气相沉积,然后进行涂膜、曝光、显影、蚀刻、离子植入、金属溅镀等反复步骤,最终在晶圆 上完成数层电路及元件加工与制作1

2、晶圆针测工序:经过上道工序后,晶圆上就形成了一个个的小格,即晶粒,一般情况下,为便于测试, 提高效率,同一片晶圆上制作同一品种、规格的产品;但也可根据需要制作几种不同品种、规格的产品。 在用针测(Probe)仪对每个晶粒检测其电气特性,并将不合格的晶粒标上记号后,将晶圆切开,分割成 一颗颗单独的晶粒,再按其电气特性分类,装入不同的托盘中,不合格的晶粒则舍弃。

3、构装工序:就是将单个的晶粒固定在塑胶或陶瓷制的芯片基座上,并把晶粒上蚀刻出的一些引接线端与 基座底部伸出的插脚连接,以作为与外界电路板连接之用,最后盖上塑胶盖板,用胶水封死。其目的是用 以保护晶粒避免受到机械刮伤或高温破坏。到此才算制成了一块集成电路芯片(即我们在电脑里可以看到 的那些黑色或褐色,两边或四边带有许多插脚或引线的矩形小块)。

基本信息

  • 中文名

    LED晶圆

  • 第一条

    LED晶圆概述

  • 第二条

    LED晶圆制作工序

  • 第三条

    LED晶圆制作流程

制作流程

衬底>>结构设计>>缓冲层生长>>N型GaN层生长>>多量子阱发光层生长>>P型GaN层生长>>退火>>检测(光荧光、X射线)>>晶圆片

晶圆>>设计、加工掩模版>>光刻>>离子刻蚀>>N型电极(镀膜、退火、刻蚀)>>P型电极(镀膜、退火、刻蚀)>>划片>>晶粒分检、分级(小汤)

多量子阱型是在芯片发光层的生长过程中,掺杂不同的杂质以制造结构不同的量子阱,通过不同量子阱发出的多种光子复合直接发出白光。该方法提高发光效率,可降低成本,降低包装及电路的控制难度;但技术难度相对较大。

性能要求

1,结构特性好,晶圆材料与衬底的晶体结构相同或相近,晶格常数失配度小,结晶性能好, 缺陷密度小.

2,介面特性好,有利於晶圆料成核且黏附性强.

3,化学稳定性好,在晶圆生长的温度和气氛中不容易分解和腐蚀.

4,热学性能好,包括导热性好和热失配度小.

5,导电性好,能制成上下结构.

6,光学性能好,制作的器件所发出的光被衬底吸收小.

7,机械性能好,器件容易加工,包括减薄,抛光和切割等.

8,价格低廉.

9,大尺寸,一般要求直径不小於 2 英寸

测试

1、主要对电压、波长、亮度进行测试,能符合正常出货标准参数的晶圆片再继续做下一步的操作,如果这 九点测试不符合相关要求的晶圆片,就放在一边另外处理。

2、晶圆切割成芯片后,100%的目检(VI/VC),操作者要使用放大 30 倍数的显微镜下进行目 测。

3、接着使用全自动分类机根据不同的电压,波长,亮度的预测参数对芯片进行全自动化挑选、测试和分 类。

4、最后对 LED 芯片进行检查(VC)和贴标签。芯片区域要在蓝膜的中心,蓝膜上最多有 5000 粒芯片, 但必须保证每张蓝膜上芯片的数量不得少于 1000 粒,芯片类型、批号、数量和光电测量统计数据记录在 标签上,附在蜡光纸的背面。蓝膜上的芯片将做最后的目检测试与第一次目检标准相同,确保芯片排列整 齐和质量合格。这样就制成 LED 芯片(市场上统称方片)。