公司简介

苏大维格作为从事微纳技术领域研发与制造的高技术企业， 苏大维格致力于行

业 共性技术与关键设备的开拓创新，高端微纳图形化直写设备、微纳材料研发，推进新型显示、照明与成像行业的产业应用。 10年来的发展，苏大维格成为 A股深交所 创业板上市企业（300331） 。

建有 国家工程研究中心等研发创新平台。

第一厂区

（ 1.3万平米），苏州工业园区钟南街478号。其中，维格光电主营无缝镭射包材、定制化 全息印 材、3D成像与光学防伪转移材料、防伪 烫金箔。维旺科技：建有中大尺寸超薄 导光板（膜）产线。主营：超薄导光板（膜）、定向扩散 增亮膜等微光学器件。具有独立的光学设计、 模具制备、评测和量产能力。应用于：平板电脑、智能手机，背光键盘、家电、汽车的LED超薄背光照明。

第二厂区

（2.7万平米）： 苏州工业园新昌街18号。公司总部、 国家地方联合工程研究中心、新品中试平台设在第二厂区。建有工程化的宽幅微 纳米加工与制造研发设施与规模化制造能力。主营：1、公共安全解决方案：证卡防伪材料（ 变色Color-shift）、动态光学放大膜AMOS）。2、微纳仪器设备：高速紫外激光图形化直写设备、纳米图形化光刻设备、柔性纳米压印设备、激光签注防伪系统；3、3D成像材料与器件等。4、大尺寸 透明导电薄膜（触控传感器膜）产线、LED纳米图形化试验基地设在第二厂区。

发展历程

2001年底，苏州苏大维格数码光学有限公司SVG DigitOptics在苏州工业园区国际科技园注册。2002年5月，正式投入运营。

成立初期，致力于“数码激光全息制版系统HoloMaker series”研发、激光全息制版技术服务、光学防伪解决方案、产业化应用。其中，HoloMaker成为中国、香港及韩国、印度等的激光全息行业关键设备，成功促进了中国光学防伪与包装行业技术进步。为此，02年初，获中华人民共和国科技进步二等奖，这是中国激光全息行业颁发最高奖项。公司创始人、董事长是中国光学全息工程领域的著名专家，兼任 中国光学学会光信息处理与全息专业委员会主任。

2003-2004年，研制成功“定向光变色膜（OVCF）”原版制造技术，成功应用于我国第二代身份证的物理视读膜。同年，研发成功大型纳米压印设备（平压平和卷对卷）。

2005年，自主研发并建立了中国首条“定位镭射转移材料生产线”，开创了“定位镭射印刷转移纸张”在烟草印刷包装上的应用先河，“定位激光转移纸张”获得中国 专利授权。同年，公司获江苏省高新技术企业认定，通过ISO9001质量管理体系认证。取得了一批 激光光刻领域的发明专利权。

2006年，成立“江苏省数码 激光成像与显示工程研究中心”（科技厅、财政厅批准），主要致力于超精密激光图形关键制造技术（ 光刻、直写、 刻蚀）和装备、新型平板显示 背光模组关键材料、光学防伪解决方案、手机导光薄膜等制造技术的研发与应用。

2006年，研制成功“宽幅智能激光SLM光刻设备工程样机并投入应用，首家实现了大幅面、高速度的亚微米 全息图像的快速光刻，多项中国发明专利授权。企业获“苏州工业园区十佳科技创新小巨人”、“2004-2006年度苏州工业园区民营科技创新十强企业”称号。

2007年，建立苏州工业园区博士后工作站维格分站。建立 镭射转移膜产能；研制成功HoloScanV紫外激光干涉光刻设备，这是国际上领先水平的亚微米激光直写系统。苏大维格具有了国际一流的超精密图形的设计与制造能力。

2007年，研制成功“DMD并行 激光光刻系统 MicroLab”，具有超过10,000dpi的图形分辨率，主要应用于精密图形设计制造（导光结构、亚微米图形），研发成功手机导光薄膜（LGF），并成立苏州维旺科技有限公司，专注于手机及平板显示光学材料研发与制造。

2008年8月，苏大维格数码光学有限公司改制成为“ 苏州苏大维格光电科技股份有限公司”SVG Optronics，将业务领域扩大到“镭射转移材料”、“平板显示材料”、“高端光学防伪解决方案”和“先进制造装备”（超精密图形激光光刻设备，纳米压印工艺设备、LIGA技术应用等”。配合公安部相关研究院所研发DMD双通道光变色膜，在我国“新驾驶证”“ 机动车行驶证”上全面应用。