平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
中华人民共和国工业和信息化部编著书籍
《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶(YS/T 718-2009)》由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。本标准起草单位：利达光电股份有限公司。本标准主要起草人：李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。
基本信息
书名
外文名
Flat Magneting Sputtering Target-Niobium Target for Optical Coating
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内容简介
《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶(YS/T 718-2009)》由中国标准出版社出版。
文摘
版权页： 1范围 本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。 2规范性引用文件 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。 GB／T2040铜及铜合金板材 GB／T3630铌板材、带材和箔材 GB／T5121（所有部分）铜及铜合金化学分析方法 GB／T5231加工铜及铜合金化学成分和产品形状 GB／T6394金属平均晶粒度测定方法 GB／T15076（所有部分）钽铌化学分析方法 3术语和定义 下列术语和定义适用于本标准。 搭接率BondingPercentage 铌板与背板之间的实际接合面积占应接合面积的百分比。 4要求 4.1材质 背板（铜板）和铌板。 4.2化学成分 铌板的牌号及其化学成分应符合GB／T3630的规定；铜板的牌号及其化学成分应符合GB／T5231的规定。 4.3靶材的尺寸及允许偏差 靶材的尺寸及允许偏差由供需双方协商。 4.4表面状况 靶材表面粗糙度及平面度由供需双方协商。 4.5外观质量 铌板和铜板的外观质量应分别符合GB／T3630和GB／T2040的规定。
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《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶(YS/T 718-2009)》由中国标准出版社出版。