三氟化氮
三氟化氮（nitrogen trifluoride）化学式NF₃，在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
基本信息
- 英文名
nitrogen trifluoride
- 分子量
71.0019
- 分子结构
三角锥
- 键角
102.5°
物理特性
熔点(101.325kPa)：-206.79℃
沸点(101.325kPa)：-129.0℃
液体密度(-129℃，101.325kPa)：1540kg/m3
气体密度(20℃，101.325kPa)：2.96kg/m3相对密度(气体，空气=1，20℃，101.325kPa)：2.46
比容(21.1℃，101.325kPa)：0.3371m3/kg
气液容积比(15℃，100kPa)：520L/L
临界温度：-39.3℃
临界压力：4530kPa
临界密度：522kg/m3
临界压缩系数：0.317
熔化热(-206.79℃，101.325kPa)：5.61kJ/kg
气化热(-129℃，101.325kPa)：163.29kJ/kg
比热容(气体，25℃，101.325kPa)：Cp=751.68J/(kg·K)
蒸气压(-171℃)：1.333kPa
(-100℃)：470kPa
(-60℃)：2200kPa粘度(气体，25℃，101.325kPa)：0.0183mPa·S
折射率(气体，25℃)：1.0004416
主要成分：纯品